英媒爆料中国自研DUV光刻机突破，芯片博弈进入新阶段
当ASML的CEO还在估算中国追赶EUV需要15年时，中国芯片行业已用自主DUV光刻机的测试成功，在半导体自主化的道路上迈出关键一步。英国《金融时报》的一则报道引发欧美半导体行业震动。报道称，中芯国际正在其工厂测试一台由上海宇量昇公司研发的国产深紫外光刻机，该设备能够支持28纳米芯片制造，并有望通过多重图案化技术延伸至7纳米工艺。这一突破意味着，中国在突破外部技术封锁的道路上取得了实质性进展。几乎
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