光刻机：国产突破新进展 光刻机是芯片制造的核心设备，技术壁垒极高，全球市场由荷兰ASML主导。中国正加速国产化进程，已在90纳米光刻机等领域取得突破，但高端技术仍面临挑战。掌握光刻机技术对保障半导体产业链安全和提升国家科技竞争力至关重要。 新闻快讯 2025年12月18日 493 点赞 0 评论 7428 浏览
